• 1. (2016高一下·襄阳月考) 三氟化氮（NF₃）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF₃+5H₂O=2NO+HNO₃+9HF．下列有关该反应的说法正确的是（   ）

  A . NF₃是氧化剂，H₂O是还原剂 B . 还原剂与氧化剂的物质的量之比为2：1 C . 若生成0.2 mol HNO₃ ， 则转移0.2 mol电子 D . NF₃在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体